化学镀铜

所属分类：电镀表面处理
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发布日期：2020-11-16 13:02:15

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产品概述

化学镀铜是电路板制造中的一种工艺，一般也叫沉铜或孔化（PTH）是一种本身催化性氧化恢复反应。首要用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子一般用的是金属钯粒子（钯是一种非常昂贵的金属，价格高且一直在上升，为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运转），铜离子首要在这些活性的金属钯粒子上被恢复，而这些被恢复的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的恢复反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。

化学镀铜：传统化学镀铜多为垂直线，流程各家均大同小异，一般流程为：

胀大→去钻污→中和→除油→微蚀→预浸→活化→加速→化学镀铜

首要部件为阴极和阳极。

阴极：引建议镀部分开始端的一对不锈钢棒具有铜制的电接触环，铜电刷被压在铜环上，以便获得杰出的接触，连接到整流器的负极上。阴极经过挡水辊与药水隔绝接触。

阳极：安装在槽中的两个钛片，这两片阳极板用两根电缆直接接到整流的正极上。阳极浸泡在药水中。

化学镀铜